Las almohadillas de pulido son los accesorios clave que determinan la calidad de la superficie de las obleas en el proceso de pulido químico mecánico (CMP). Están compuestos principalmente de materiales como espuma de poliuretano, que tienen una microestructura porosa y una alta resistencia al desgaste. Sus funciones principales incluyen la transferencia uniforme de presión, el almacenamiento de fluido de pulido y la eliminación de residuos de reacción. Al ajustar la dureza, se puede optimizar la uniformidad en el molde (WID) y en el chip de la oblea, respectivamente. El diseño del patrón de ranura afecta directamente la eficiencia de distribución del líquido de pulido. La ranura radial mejora la tasa de eliminación de material, mientras que la ranura anular optimiza el acabado superficial.
El rendimiento de la almohadilla de pulido está determinado por 7 indicadores básicos:
1.Densidad: Afecta el grado de deformación.
2.Dureza: Regular la eficiencia de molienda
3.Espesor: determina la uniformidad de la presión.
4.Patrón de ranura: optimizar la distribución del líquido
5.Parámetros de ranura: el ancho/profundidad afectan la capacidad de almacenamiento
6.Especificaciones del diámetro exterior: deben adaptarse al tamaño del equipo.
Composición y estructura de la almohadilla de pulido de poliuretano.
Las almohadillas de pulido de poliuretano suelen utilizar poliuretano de alto-rendimiento como material principal. El poliuretano es un tipo de polímero de alto peso molecular con buena elasticidad, resistencia al desgaste y estabilidad química.
Su estructura generalmente incluye una capa de pulido y una capa de respaldo. La capa de pulido está en contacto directo con el material pulido y debe tener características adecuadas de dureza, rugosidad y porosidad para lograr un efecto de pulido eficiente; la capa de respaldo desempeña principalmente el papel de soportar y fijar la capa de pulido, al tiempo que ayuda a transmitir la presión de pulido y mantener la estabilidad general de la almohadilla de pulido.
Características de rendimiento de las almohadillas de pulido de poliuretano.
Alta elasticidad: puede adaptarse mejor a la superficie del objeto pulido, e incluso las superficies curvas complejas se pueden pulir de manera uniforme, reduciendo la presión local demasiado grande o demasiado pequeña durante el proceso de pulido CMP, mejorando así la calidad del pulido.
Alta resistencia al desgaste: durante el proceso de pulido-a largo plazo, puede mantener su propia forma y rendimiento y no es fácil de desgastar, lo que extiende la vida útil de la almohadilla de pulido y reduce el costo de uso.
Alta planitud: puede garantizar la planitud de la superficie pulida, lo cual es esencial para el procesamiento de componentes ópticos de alta-precisión, chips semiconductores, etc., y puede cumplir con los estrictos requisitos de precisión de la superficie en estos campos.
Alta estabilidad: bajo diferentes condiciones ambientales (como cambios de temperatura y humedad, etc.), la almohadilla de pulido de poliuretano aún puede mantener la estabilidad de su rendimiento y garantizar la consistencia del efecto de pulido.